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織茂 聡; 余語 覚文; 小倉 浩一; 匂坂 明人; 森 道昭; 桐山 博光; 近藤 修司; 山本 洋一*; 下村 拓也*; 田上 学*; et al.
no journal, ,
高強度超短パルスレーザーを薄膜に照射することによって生成されるMeV級の陽子生成と、その応用研究を発表する。実験は原子力機構と韓国光州科学技術研究所で行った。照射レーザーは直径50mmで、p偏光,45度,焦点距離238mm(Fナンバー4.8)で照射強度3
9
10
W/cm
である。ターゲットは銅テープ(5
m厚)とポリミド(7.5m)を使用した。ニッケルのメッシュパターンを、陽子イメージはCR39を使用し、X線イメージはイメージングプレートを使用し測定した。
加藤 義章
no journal, ,
高出力パルスレーザーで生成される高強度場により、高エネルギーの電子,イオン,X線が卓上装置で生成される。相対論領域の高強度場でプラズマに生成される多様な現象が、実験結果と詳細な計算機シミュレーションの比較により明らかにされつつある。本講演では航跡波加速,光速ミラーなどに関する最近の進歩を報告する。